Разработка китайских специалистов в области экстремальной ультрафиолетовой литографии подходит к завершению: первые тестовые образцы оборудования запустят уже в III квартале 2025 года. Испытания инновационных установок проходят на производственной площадке Huawei в Дунгуане, что станет прорывом в укреплении технологической независимости страны. Это важный шаг на фоне ограничений, введённых Нидерландами на поставку литографических систем от компании ASML.
Прорыв в полупроводниковой индустрии
Новая разработка открывает эру собственных передовых технологий Китая в области EUV-литографии, ранее доминируемой западными компаниями. Прототип установки, использующей метод лазерной плазменной обработки (LDP), демонстрирует высокую эффективность. Упрощённая конструкция оборудования, энергоэффективность и снижение производственных затрат делают технологию перспективной для масштабирования. Уже к 2026 году ожидается переход к серийному выпуску машин.
